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Beschreibung

Beschreibung
Deutsch: Verlauf der verallgemeinerten Stapelfehlerenegie in FCC Kupfer
Datum 12.6.2009
Quelle Dissertation: Atomistische Simulationen von Nanoindentation
Urheber Gerolf Ziegenhain
Genehmigung
(Weiternutzung dieser Datei)
GPLv3

Lizenz

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aktuell19:30, 17. Mai 2010Vorschaubild der Version vom 19:30, 17. Mai 20101.600 × 1.200 (58 KB)wikimediacommons>File Upload Bot (Magnus Manske) {{BotMoveToCommons|de.wikipedia|year={{subst:CURRENTYEAR}}|month={{subst:CURRENTMONTHNAME}}|day={{subst:CURRENTDAY}}}} {{Information |Description={{de|Verlauf der verallgemeinerten Stapelfehlerenegie in FCC Kupfer}} |Source=Transferred from [http://de.wi

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