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Beschreibung
| Beschreibung |
English: Schematic representation of an immersion lithography system using water as the immersion medium between the last lens and the wafer. The position of the water under the lens is controled by a continuous flow of the water and an air curtain on the side.
Deutsch: Schematischer Aufbau eines Immersionslithografiesystems mit Wasser als Immersionsmedium zwischen der letzten Linse und dem Wafer. Die Position des Wassers unter der Linse wird dabei durch eine kontinuierliche Strömung und einem Luftschleier am Rand gehalten. |
| Datum | |
| Quelle | Eigenes Werk |
| Urheber | Cepheiden |
| SVG‑Erstellung |
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| Version vom | Vorschaubild | Maße | Benutzer | Kommentar | |
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| aktuell | 01:32, 23. Jan. 2012 | | 1.024 × 575 (11 KB) | wikimediacommons>Cepheiden | small modifications |
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