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Beschreibung
| Beschreibung |
English: Representation of a coating from the group of physical vapor deposition (PVD), such as the thermal evaporation. In this method, a material in vacuum environment is heated/evaporated (thermal, laser or electron bombardment) in an evaporator and the resulting material vapor spreads straight from the evaporator in the direction of the substrate.
Deutsch: Darstellung eine Beschichtungsanlage aus der Gruppe der physikalische Gasphasenabscheidung (engl. physical vapor deposition, PVD), beispielsweise das thermische Verdampfen. Bei diesem Verfahren wird ein Material in Vakuumumgebung in einem Verdampfer erhitzt/verdampft (thermisch, durch Laser oder Elektronenbeschuss), der entstehende Materialdampf breitet sich geradlinig vom Verdampfer in Richtung Substrat aus. |
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| Quelle | Eigenes Werk | ||
| Urheber | Dipl-ing-metaller | ||
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| aktuell | 07:26, 9. Feb. 2014 | | 759 × 618 (51 KB) | wikimediacommons>Cepheiden | Reverted to version as of 14:41, 7 September 2010; no watermarks and ugly border shadows |
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